森蘭國際藝術中心

建設時間: 建設地點:
項目位於上海外高橋新市鎮東溝楔(xiē)形綠地D06-05地塊,建設內(nèi)容為美術館、藝術酒店、藝術商貿區、多功能活動中心以及兩層地下室,為外高橋(qiáo)地區一座集(jí)酒店、藝術(shù)中心、商場等功(gōng)能的大型(xíng)綜合體。項目總麵積約9萬平方米,其中地下約4.5萬平方米,地上約4.5萬(wàn)平方米,容積率1.43,建築密(mì)度35%,綠地率35%,機動車停車310輛,建築高度(dù)23.8m。

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