上海日立電器有限公司科技大樓建設項目可行性研究報告(gào)

建設時間:2003年(nián) 建設地點:上海(hǎi)金(jīn)橋

'該項目位於金橋出口加工(gōng)區26#地塊內,新建大樓占地(dì)總麵積1950平方。主要設置試驗開發中心(技(jì)術人員辦公和(hé)試驗加(jiā)工設備用房)、信息(xī)管理中心及相關管理部門辦公樓。總投資約5000萬。

獲獎信息:

獲(huò)獎項目名稱(chēng):上海日立電器有限公司科技大樓建設(shè)項目可行性研究報告

發獎部門:中國輕工(gōng)業勘察設計協會

獎項(xiàng)等級:工程谘詢三等(děng)獎

獲(huò)獎年份:2004年

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